該技術(shù)采用磁控濺射在不銹鋼基底上沉積鈦膜，并考察其相關(guān)性質(zhì)及影響因數(shù)，確定合適的條件參數(shù)，制得膜厚、附著力等性能都較好的薄膜，進(jìn)而為工業(yè)化大規(guī)模采用濺射制備薄膜材料提供參考數(shù)據(jù)。這項技術(shù)已經(jīng)完成了等離子體濺射爐的研制工作，設(shè)計并獲得了鋼材表面鍍鈦膜的等離子體濺射爐；完成鋼材表面等離子體濺射沉積鍍鈦膜的工藝條件摸索，通過摸索，獲得了設(shè)備的基本性能。研究了不同工藝參數(shù)對鋼鈦復(fù)合材料性能的影響；研究了較優(yōu)工藝參數(shù)對鋼鈦復(fù)合材料性能的影響；在固定其他工藝條件的前提下，對在鋼材表面等離子體鍍鈦膜的各種工藝條件進(jìn)行了優(yōu)選實驗，獲得了各工藝的較優(yōu)值，這些工藝條件分別是：氬氣流量為20ml/min、功率112W、真空度1.0Pa、鍍膜時間100min、偏壓150V、靶距35mm。在上述已優(yōu)化出來的較優(yōu)工藝條件下進(jìn)行綜合實驗，研究在較優(yōu)工藝條件下制成產(chǎn)品表面及斷面形貌，并對其耐腐蝕性能和鈦膜在基材上的附著力進(jìn)行表征，結(jié)果發(fā)現(xiàn)制成的鈦膜鍍層的耐腐蝕性、表面裝飾性和附著力均達(dá)到預(yù)定目標(biāo)，可以滿足工程需要。

目前國際上雖然有采用等離子體制備鈦合金薄膜的研究報道，但未見在真空條件下等離子體濺射鍍鈦制備鈦膜不銹鋼復(fù)合材料的研究報道，因此該方法屬首創(chuàng)。由于鍍鈦不銹鋼復(fù)合材料在科技、國防和社會生活等方面的巨大應(yīng)用前景，以及該項目成果與傳統(tǒng)生產(chǎn)方式相比所具有的巨大優(yōu)勢，使該項目具有廣泛的應(yīng)用前景。該技術(shù)屬于國內(nèi)先進(jìn)水平，限國內(nèi)轉(zhuǎn)讓。

寶鈦集團(tuán)有限公司副總經(jīng)理張延?xùn)|點評：該技術(shù)采用磁控濺射在不銹鋼基底上沉積鈦膜，通過研究確定合適的條件參數(shù)，制得膜厚、附著力等性能都較好的鈦薄膜。該成果完成了等離子體濺射爐的研制工作,研究了不同工藝參數(shù)對鋼鈦復(fù)合材料性能的影響,對在鋼材表面等離子體鍍鈦膜的各種工藝條件進(jìn)行了優(yōu)選實驗，獲取了最佳工藝值；并最終制造了耐腐蝕性、表面裝飾性和附著力均達(dá)到預(yù)定目標(biāo)的鈦鍍膜層。該技術(shù)屬于國內(nèi)先進(jìn)水平，建議推廣運用。

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